Nicomp 380 DLS是納米粒徑分析儀器，采用現(xiàn)在的動態(tài)光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很的分析比較復雜多組分混合樣品。為實驗室的研究提供的分析技術(shù)。適用于以下領(lǐng)域：
       1）磨料

       磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

       2）化學機械拋光(CMP)

       化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟?；瘜W機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學機械拋光加工過程的順利進行。

      3）陶瓷

       陶瓷在工業(yè)中的應用非常廣泛，從磚瓦到生物醫(yī)用材料及半導體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

       4）粘土

       粘土是一種含水細小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

       5）涂料

       涂料種類繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

       6）污染監(jiān)測

       粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用，產(chǎn)品的污染對產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應的標準、規(guī)程或規(guī)范，必須嚴格遵守和執(zhí)行，以產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

       7）化妝品

       無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)?；瘖y品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

      8）乳劑

       乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。

       9）食品

       食品的原料（粉末及液體）通常來源于不同的加工廠，不同來源的原料必須滿足某些特定的標準以使終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動都會對食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量和質(zhì)量控制（QA/QC）的一個指標可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

       10）液體工作介質(zhì)/油

       液體工作介質(zhì)（如：油）越來越昂貴，延長液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機械設備運轉(zhuǎn)過程中會產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中（如：油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)），因此需要一種方法來確定介質(zhì)（油）的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(zhì)（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命。

      11）墨水

       隨著打印機技術(shù)的不斷發(fā)展，打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應當控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設備監(jiān)測其研磨加工過程，以墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

      12） 膠束

       膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后，其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點微粒，這種膠體質(zhì)點與離子之間處于平衡狀態(tài)。

       乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等